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在高科技產業的許多生產流程中 – 包括蝕刻、化學氣相沉積、以及磊晶製程 – 會用到各種危害氣體，而產生的廢氣則必須在使用端立即處理。這些廢氣被列為溫室氣體，具有毒性與/或高度易燃，而且通常會對生產設施及環境造成極高風險。舉例而言，半導體產業使用的全氟化碳(perfluorocarbons)其暖化效應極高，因此需要高效率的廢氣處理方案。
匯流(combining)與輸送不同氣體，送至晶圓廠的中央廢氣系統，可能產生高易燃性與高爆性的氣態混合物，過去甚至曾造成整座廠房全毀的事故。而氣體中的微粒也可能導致排氣道阻塞。為控制這些風險，製程廢氣需要在有害排氣的使用端(POU)立即處理與減量。這方面可採用燃燒/水洗(Brun/Wet)[1]、濕式處理(WET Scrubber)[2]、以及靜電過濾(EDC)[3]等廢氣處理系統加以管控。
References 燃燒/水洗(Brun/Wet) (www.das-ee.com) 濕式處理(WET Scrubber) (www.das-ee.com) 靜電過濾(EDC) (www.das-ee.com)
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